View Article |
Kesan sistematik modifikasi dielektrik dengan asid fosfonik alkil ekalapisan terhadap prestasi transistor filem nipis organik saluran-N
Mohd Zulhakimi Abdul Razak1, ohd Farhanulhakim Mohd Razip Wee2, Muhamad Ramdzan Buyong3, Sawal Hamid Md Ali4, Teh, Chin Hoong5, Jumadi Abdul Sukor6, Ahmad Ghadafi Ismail7.
Kajian ini membincangkan tentang kesan panjang rantai karbon pada asid alkil fosfonik ekalapis pengumpulan kendiri terhadap prestasi transistor organik filem nipis saluran-n terbentuk berdasarkan N,N’-ditridekil-3,4,9,10- perilenadikarboximide (PTCDI-C13). Prestasi transistor organik filem nipis tersebut meningkat dengan peningkatan panjang rantai ekalapis pengumpulan kendiri pada dielektrik SiO2. Magnitud mobiliti setinggi 0.3 cm2/Vs dan nisbah arus buka/tutup lebih tinggi daripada 105 telah dicapai. Transistor tersebut adalah calon terbaik untuk menyaingi transistor organik filem nipis pentacene saluran-p untuk menghasilkan litar semikonduktor logam pelengkap teroksida organik (O-CMOS). Prestasi peranti ini tidak bergantung terhadap panjang rantaian alkil apabila diuji di dalam udara ambien.
Affiliation:
- Universiti Kebangsaan Malaysia, Malaysia
- Universiti Kebangsaan Malaysia, Malaysia
- Universiti Kebangsaan Malaysia, Malaysia
- Universiti Kebangsaan Malaysia, Malaysia
- Universiti Kebangsaan Malaysia, Malaysia
- Universiti Tun Hussein Onn Malaysia, Malaysia
- Universiti Kebangsaan Malaysia, Malaysia
Toggle translation
|
|
Indexation |
Indexed by |
MyJurnal (2019) |
H-Index
|
0 |
Immediacy Index
|
0.000 |
Rank |
0 |
Indexed by |
Web of Science (JCR 2016) |
Impact Factor
|
0.470 |
Rank |
Q3 (Multidisciplinary Sciences) |
Indexed by |
Scopus (SCImago Journal Rankings 2016) |
Impact Factor
|
- |
Rank |
Q2 (Multidisciplinary) |
Additional Information |
0.215 (SJR) |
|
|
|